柔性抛光磨粒群动态力链观测装置

出售状态:已下证
专 利 号 :已交易,保密
专利类型:发明专利
专利分类:检测设备
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详细介绍

技术领域

本发明涉及一种柔性抛光磨粒群动态力链观测装置。

背景技术

在柔性抛光超精密加工过程中,大量磨粒颗粒构成的颗粒系统在 柔性加工工具的支撑下对工件表面质量进行提升,从而使工件表面更 为光洁,在工业运用中有更长的使用寿命。但柔性抛光方法由于支撑 工具带有柔性特征,使得磨粒颗粒体系在加工过程中宏观上随加工工 具呈一致的运动状态,但是微观上磨粒颗粒体系内部相互挤压,形成 微动,其颗粒间的微观力学状态也随之变化。柔性抛光超精密加工方 法要求极大限度的提升表面质量,很多光学元件要求表面精度达到亚 纳米级别,在这种尺度的加工要求内,为了进一步提升加工表面质量, 仅对宏观加工参数进行研究是不够的,需进一步研究磨粒颗粒群体间 的微观力学特性。

发明内容

针对柔性抛光中磨粒群的微观力学特性难以直接分析以及现有 对颗粒物质力链研究装置难以直接观测颗粒微观力链的问题,本发明 提出了一种以磨粒群的微观力学特性为研究切入点,能够进一步提升 各类柔性抛光方法的加工表面质量的柔性抛光磨粒群动态力链观测 装置。

本发明所述的柔性抛光磨粒群动态力链观测装置,其特征在于: 包括图像处理装置和颗粒控制装置,所述的图像处理装置包括光源发 生器、光源采集器、数据分析仪,所述的光源发生器位于观测区最低 端,并且光源发生器发射的光源穿过下偏振光器指向位于由下偏振光 器和上偏振光器组成的观测区之间的颗粒控制装置;所述的颗粒控制 装置的上表面覆盖透明挡板;所述的光源采集器位于上偏振光器的正 上方,并且光源采集器的光源采集视野覆盖通过上偏振光器透射出的 光源;所述的数据分析仪的数据输入端与所述的光源采集器的数据输 出端相连、所述的数据分析仪的数据信号输出端与数据分析仪的显示 屏连接;

所述的颗粒控制装置包括透明的上滑块、透明的下滑块、用于容 纳光弹颗粒的容纳腔,所述的下滑块配有应力传感器和位移传感器, 所述的应力传感器的数据输出端和位移传感器的数据输出端分别与 所述的数据分析仪相应的数据端连接。

所述的腔体包括上挡板、下挡板、左滑动挡板和右滑动挡块,所 述的上挡板固定在上滑块内,所述的下挡板固定在下滑块内,所述的 上挡板分别通过左滑动挡板和右滑动挡块与所述的下挡板绞接,四个 挡板以密封的形式约束光弹颗粒处于观测区的中心,并且通过所述的 上挡板和所述的下挡板之间的相对位移实现光弹颗粒内部力学信息 的变化,所述的上滑块和所述的下滑块分别通过上挡板和下挡板实现 二者之间的相对位移。

所述的上挡板和所述的下挡板相互平行。

所述的光源采集器为高分辨率相机。

所述的数据分析仪采用彩色梯度算法获取光弹颗粒力学信息,从 而获得相应的力链分布图。

所述的光源发生器采用AOC-193FW,并且发射的光源直径为 19英寸。

本发明的工作原理在于:首先取下透明挡板,将光弹颗粒群放在 颗粒控制模块中,可选用AOC-193FW的19英寸光源发生器,光源发 生器发出光线通过下偏光器照射到,观测区域,由于上滑块与下滑块 都为透明状态,使得光可以照射到光弹颗粒上,基于Maxwell关于 应力-光学定理(其中,F(x)代表应力传感器受力与x轴位移之间的函 数;X(t)代表位移传感器位移与时间之间的函数;k为用于应力传 感器与下滑块之间的连接弹簧),如果光弹颗粒不受力,光线通过光 弹颗粒后将不发生改变;如果光弹颗粒受力,将产生暂时双折射现象, 即入射的偏振光将沿两个主应力方向分解为两束相互垂直的偏振光, 而且分解后的这两束偏振光射出模型时就产生一个相位差,然后可以 采用高分辨相机对上述现象进行图像采集,并传送至数据分析仪进行 数字图像分析。

进一步,将光弹颗粒约束在观测密闭区后,通过手动调节左滑动 挡板与右滑动挡板,使得光弹颗粒在这个过程中获得不同的运动状 态,通过位移传感器记录下滑块的速度与位移,模拟磨粒在柔性抛光 加工时候被施加的速度,通过在上滑块与下滑块设计应力传感器,实 时测得滑块内部对光弹颗粒所施加的压力。将这些数据传送至数据分 析仪,可作为对光弹颗粒的初始施加参数。

进一步,对光弹实验拍摄得到的数字图像进行处理,在此基础上, 结合彩色梯度算法获取光弹颗粒材料力学信息,得到力链分布图,验 证磨粒群力传递分析理论体系,并观测颗粒群的几何位置信息,验证 颗粒物质破坏性结构的主要构型与形成规律,并以磨粒群理想切削状 态为目标得到磨粒群理想控制参数。

本发明的有益效果在于:1、基于Maxwell关于应力-光学定理, 采用光弹颗粒对磨粒群进行实物模拟,通过数字图像分析方法,结合 彩色梯度算法获取光弹颗粒材料力学信息,得到力链分布图。2、通 过颗粒控制模块,使得光弹颗粒的外部施加参数可实时被检测,并可 通过滑块进行光弹颗粒运动状态的调整,实现了对柔性抛光加工实验 的模拟,并以磨粒群理想切削状态为目标得到磨粒群理想控制参数。

附图说明

图1是本发明整体结构示意图。

图2是本发明光弹颗粒控制模块示意图。

图3是本发明颗粒力链微观示意图

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本发明

参照附图:

本发明所述的柔性抛光磨粒群动态力链观测装置,包括图像处理 装置1和颗粒控制装置2,所述的图像处理装置1包括光源发生器13、 光源采集器11、数据分析仪12,所述的光源发生器13位于观测区最 低端,并且光源发生器13发射的光源穿过下偏振光器14指向位于由 下偏振光器14和上偏振光器16组成的观测区之间的颗粒控制装置2; 所述的颗粒控制装置2的上表面覆盖透明挡板15;所述的光源采集 器11位于上偏振光器16的正上方,并且光源采集器11的光源采集 视野覆盖通过上偏振光器16透射出的光源;所述的数据分析仪12的 数据输入端与所述的光源采集器11的数据输出端相连、所述的数据 分析仪12的数据信号输出端与数据分析仪12的显示屏连接;

所述的颗粒控制装置2包括透明的上滑块21、透明的下滑块28、 用于容纳光弹颗粒的容纳腔,所述的下滑块28配有应力传感器29和 位移传感器24,所述的应力传感器29的数据输出端和位移传感器24 的数据输出端分别与所述的数据分析仪12相应的数据端连接。

所述的腔体包括上挡板23、下挡板26、左滑动挡板22和右滑动 挡块25,所述的上挡板23固定在上滑块21内,所述的下挡板26固 定在下滑块内,所述的上挡板分别通过左滑动挡板和右滑动挡块与所 述的下挡板绞接,四个挡板以密封的形式约束光弹颗粒处于观测区的 中心,并且通过所述的上挡板23和所述的下挡板26之间的相对位移 实现光弹颗粒内部力学信息的变化,所述的上滑块21和所述的下滑 块28分别通过上挡板23和下挡板26实现二者之间的相对位移。

所述的上挡板23和所述的下挡板26相互平行。

所述的光源采集器11为高分辨率相机。

所述的数据分析仪12采用彩色梯度算法获取光弹颗粒力学信 息,从而获得相应的力链分布图。

所述的光源发生器13采用AOC-193FW,并且发射的光源直径 为19英寸。

本发明的工作原理在于:

首先取下透明挡板15,将光弹颗粒群27放在颗粒控制模块2中, 可选用AOC-193FW的19英寸光源发生器13,光源发生器13发出 光线通过下偏光器14照射到,观测区域,由于上滑块21与下滑块 28都为透明状态,使得光可以照射到光弹颗粒27上,基于Maxwell关 于应力-光学定理(其中,F(x)代表应力传感器受力与x轴位移之间的 函数;X(t)代表位移传感器位移与时间之间的函数;k为用于应力 传感器与下滑块之间的连接弹簧),如果光弹颗粒27不受力,光线通 过光弹颗粒27后将不发生改变;如果光弹颗粒27受力,将产生暂时 双折射现象,即入射的偏振光将沿两个主应力方向分解为两束相互垂 直的偏振光,而且分解后的这两束偏振光射出模型时就产生一个相位 差,然后可以采用高分辨相机11对上述现象进行图像采集,并传送 至计算机12进行数字图像分析。

进一步,将光弹颗粒27约束在观测密闭区后,通过调节左滑动 挡板22与右滑动挡板25,使得光弹颗粒27在这个过程中获得不同 的运动状态,通过位移传感器24记录下滑块28的速度与位移,模拟 磨粒在柔性抛光加工时候被施加的速度,通过在上滑块21与下滑块 28设计压力传感器29,实时测得滑块内部对光弹颗粒27所施加的压 力。将这些数据传送至计算机12,可作为对光弹颗粒27的初始施加 参数。

进一步,对光弹实验拍摄得到的数字图像进行处理,在此基础上, 结合彩色梯度算法获取光弹颗粒材料力学信息,得到力链分布图,验 证磨粒群力传递分析理论体系,并观测颗粒群的几何位置信息,验证 颗粒物质破坏性结构的主要构型与形成规律,并以磨粒群理想切削状 态为目标得到磨粒群理想控制参数。

本说明书实施例所述的内容仅仅是对发明构思的实现形式的列 举,本发明的保护范围不应当被视为仅限于实施例所陈述的具体形 式,本发明的保护范围也包括本领域技术人员根据本发明构思所能够 想到的等同技术手段。

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